CS-620F Series
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고온 인산 공정에 최적화된 차세대 농도 모니터
3D NAND 공정에서는 다수의 SiO₂·SiN 층을 증착한 후, 고온 인산(H₃PO₄)을 사용해 SiN 층을 선택적으로 제거합니다. CS-620F는 최대 180°C의 고온 환경에서도 안정적인 실시간 농도·온도 모니터링이 가능하여, 공정별
목표 식각율을 정밀하게 유지할 수 있습니다.
• 최대 92% 고농도 H₃PO₄의 정확한 측정 가능
• 180 °C 고온 인산을 직접(Direct) 실시간 측정
• 접액부에 PFA 배관만 적용하여 우수한 내식성과 안정성 확보
• 약 3초 간격 농도 출력으로 신속한 피드백 제어(Feedback Control) 지원
• 기포·진동 등 주변 환경 영향을 최소화한 안정적인 측정 성능
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