Auto Scanning System
본문
Model
KASS-5600
Wafer표면 Etching Scan 장비
본 장치는 ICP-MS와 연동하여 Wafer 표면의 Etching & Scan 하여 표면의 Metal 오염을 분석하는 장비이며
6”, 8”, 12”의 Wafer Size 에 대응할 수 있도록 설계되어 있습니다.
사양
| Wafer Size | 6”(150mm), 8”(200mm), 12”(300mm) |
|---|---|
| Dimension | 1,730(W) x 1,850(D) x 1,970(H)mm |
| Weight | 700Kg 이하 |
| Application | BPD Process |
| Through put | 10 Wafer/hr (Full scan mode) |
| Wafer Size | 6”(150mm), 8”(200mm), 12”(300mm) |
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