- CS-600F Series
- CS-100 Series
- CS-700 Series
- HF Monitor
- Resistivity Meter
- Conductivity Meter
- O3 Monitor
- pH Meter
- Particle Detection System
품질 개선형 차세대 약액 농도 모니터입니다. - 본체의 Compact화로 Layout Free 실현 종전 모델(CS-100F1 Series)과 비교해 높이 36%, 용적 40%, Cell부의 필요공간이 46% 작아져 Compact Size 를 실현하였습니다. 더욱이 광원 Unit과 모니터 본체의 분리 설치가 가능해져 약액 공급 Unit이나 세정 장비의 설치 Space에 맞춘 자유로운 배치가 가능합니다. - 고온 약액(20℃~80℃)의 Direct 안정측정 실현 개선된 광학계와 연산처리 방식 개량으로, 최선단 Wet Process에 꼭 필요한 고온 약액의 Direct 측정을 실현하였습니다. 따라서 사용자 측에서의 약액 냉각을 필요로 하지 않으며, 고온을 Direct 측정 하면서도 농도 변화없이 안정된 측정할 수 있게 되었습니다. - Inline 측정에서 Back Ground 보정 빈도 대폭 감소 종전 모델(CS-100F1 Series)과 비교해 정기 보정 빈도가 줄어, 장비의 Down Time을 대폭 줄일 수 있게 되어 Throughput 향상에 크게 공헌할 수 있습니다. - 1대로 최대 6종 약액 측정 가능 1대의 모니터로 최대 6종의 약액 또는 Range의 측정이 가능합니다. 측정하고자 하는 약액의 종류 또는 Range를 자유롭게 지정할 수 있으므로 측정 Needs에 폭넓게 대응됩니다. - 데이터 저장기능 탑재 종전 모델(CS-100F1 Series)에서는 보유하고 있지 않았던 실시간 데이터 저장기능이 탑재되었습니다. 어떠한 Event가 발생하였을 경우 즉시 내부 저장 데이터를 백업/분석하여 즉각적인 서비스 대응을 할 수 있습니다.
CS-100 시리즈는 반도체 제조에 있어서 세정 공정 및 에칭 공정에서 사용되는 각종 약액을 고정밀 로 측정하는 농도모니터입니다. 고속 응답성과 Compact한 설계로, 각 성분 농도를 실시간으로 측정해 알람으로 액교환이나 자동 Adding하는 타이밍을 출력합니다. 짧은 측정주기로 농도 변화에도 충실히 대응합니다. - 실시간 농도 추종성 약 3초 측정 주기로 300mm 프로세스의 농도 관리를 실현, Multi Bath는 물론 One Bath 방식의 세정 장비의 세밀한 농도 관리를 지원합니다. - Full Auto 측정으로 간편한 관리 측정은 Full Auto로 측정 개시 후의 제어는 일절 불필요, 사용자가 약액을 공급하기만 하면 간편하게 측정됩니다. 또, 참조 스펙트럼 측정은 공기를 사용하기 때문에 일상 측정에서는 유틸리티로서의 물을 불필요합니다. - 기포 대책을 통한 연속 측정 탈포기능을 내장해 Flow Cell 직전에 기포를 분리. 약액을 흘린 상태에서의 연속 측정이 가능합니다. - DC 24V를 채용한 높은 안전성 전원은 저전압 DC 24V를 채용하여 약 45W와 감전에 대한 안전성과 전력 절약을 향상, Leak 센서를 내장하여 Leak 발생시에 약액 공급 차단 등의 긴급 대응도 가능합니다. - 경량 Compact 설계 바닥 면적이 종전 대비 2/3의 Compact 설계로 세정 장비의 공간 절약화에 공헌, 설치가 용이하고 경량이므로 장비 안에 설치하는 것도 가능합니다.
| SC-1(NH3/H2O2) Monitor | CS-131 | |
|---|---|---|
| SC-2(HCl/H2O2) Monitor | CS-152 | |
| SPM(H2SO4/H2O2) Monitor | CS-150 | |
| BHF(NH4F/HF) Monitor | CS-137 | |
| FPM(HF/H2O2) Monitor | CS-153 | |
| HF/HNO3 Monitor | CS-153N | |
| TMAH/H2O2 Monitor | CS-139E | |
| HF/EG Monitor | CS-138 | |
| H2SO4/HF Monitor | CS-133V | |
| HNO3/HCl Monitor | CS-152N | |
| HNO3/CH3COOH/H3PO4 Monitor | CS-139J | |
약액 농도 모니터 CS-700 시리즈는 반도체 제조 공정에서 사용되는
혼합액의 각 성분농도를 고정밀도로 측정합니다.
HORIBA 단독의 광학 시스템을 개량하여 혼산중의 성분농도에 대해 종래 대비 약 5배의 고정밀도 측정을 실현
했습니다. 반도체 제조 공정의 품질관리 강화나 약액 관리의 정밀도 향상에 공헌할 수 있습니다.
- 복잡한 혼재된 산(Acid)성분을 측정하는데 최적 (BEOL향 약액)
- 종래 대비 정밀도 5배 향상
- 최대 8성분을 실시간으로 고정밀도 측정
- CS-100 Series의 기본 기능과 구조를 유지
CM-200A/210A
전자 유도 방식 도전율계를 채용하여 불산 농도를 고정밀도로 측정하고 실시간으로 표시해 저농도 영역에서도 높은 재현성 정밀도를 실현, 에칭을 포함한 웨이퍼의 세정 공정에 있어서의 불산 관리를 포함하여 여러가지 산업분야에 폭넓게 대응합니다.
| 측정 대상 | 불화수소산(불산) |
|---|---|
| 측정 원리 | 전자 유도형 도전율 측정 방식 |
| 측정 범위 | HF 0~1/2/5/10/20/50%, 0~100/200/500/1000mS/cm |
| 재현성 | F.S±2% |
| 응답성 | 90% 응답 5초 이내(동일 온도 조건에서) |
| 센서 종류 | 침적형(CM-200A)과 유통형(CM-210A)으로 분리 |
HF-960M
65nm, 45nm 디바이스의 진화에 따라 RCA 세정은 보다 저농도에서의 농도 컨트롤이 요구되고 있습니다. HF-960M은 내구성이 뛰어난 센서를 이용하여 저농도 영역의 불산, 염산, 암모니아를 고정밀도 및 고속 응답으로 측정합니다.
| 측정 대상 | 불화수소산(불산)/염산/암모니아 | |
|---|---|---|
| 측정 방식 | Carbon 유통형 도전율 측정-농도 환산 | |
| 셀 정수 | 약 4/cm | |
| 온도 센서 사양 | 백금온도측정저항체 1000Ω/0℃내장 | 온도 계수 3850ppm/℃ 표준 | |
| 측정 범위 | HF | 0~5000ppm/0~1000ppm |
| HCI | 0~5000ppm/0~1000ppm | |
| NH3 | 0~10000ppm/0~2000ppm | |
| 도전율 | 0~50.00mS/cm, 0~2.000mS/cm | |
| 온도 | 0~100℃ | |
| 반복성 | F.S±0.5% | |
| 직선성 | F.S±0.5% | |
비저항계(HE-480R)
DI Water의 온도 특성을 기초로 마이크로 프로세서가 온도 보상 계수를 연산해 25℃ 기준의 비저항으로 자동 환산됩니다.
프로세스 중의 DI Water를 고정밀도로 측정합니다.
또한 0~100℃의 범위에서 고정밀도의 온도 보상을 실현하여, Wafer의 최종 세정액으로서 빠트릴 수 없는 DI Water의 엄격한 순도감시를 할 수 있습니다.
- 최종 린스 공정의 DI Water 비저항 감시에 최적
- 풍부한 온도 보상 기능 내장
- 기준 온도 임의 설정 기능 채용
- 측정치와 파라미터 설정치를 동시 표시
- 알기 쉬운 아이콘 표시와 만전을 기한 Security 기능
- CE마크 대응
| 측정 방식 | 2 전극 방식 | |
|---|---|---|
| 셀 정수 | 0.1/cm | |
| 온도 센서 사양 | 백금온도측정저항체 1000Ω/0℃ 내장 | 온도 계수3850ppm/℃ 표준 | |
| 측정 범위 | 비저항 |
0~0.200, 0~2.00, 0~20.00, 0~100.0MΩ·cm(0~2.00, 0~20.0, 0~200.0, 0~1000kΩ·m)
* 100.0MΩ·cm, 1000kΩ·m의 범위는 온도 보상없이 측정 가능
|
| 온도 | 0~100℃(소수점 이하 2자리수까지 선택 표시 가능) | |
| 반복성 | Full Scale ±0.5% | |
| 직선성 | Full Scale ±0.5% | |
Carbon Sensor 비저항계(HR-960R-GC)
금속용출에 의한 오염이 없고, 불산이나 과산화수소를 포함한 세정액에 대한 내약품성을 가지는 Glass Carbon센서를 사용한 비저항계입니다. Carbon 표면의 특수처리에 의해 파티클 유출도 초미량입니다. One Bath 세정 시스템에 있어서의 린스 공정에서의 비저항 측정이 가능하게 되어 세정 공정에서의 고품위 관리를 실현할 수 있습니다. - 우수한 내약품성으로 One Bath세정에서의 고품위 관리를 실현 - 우수한 고속 응답성 - 풍부한 온도 보상 기능을 내장 - 알기 쉬운 아이콘 표시와 만전을 기한 Security 기능 - DC24V 전원 - CE마크 대응
| 측정 방식 | 2 전극 방식 | |
|---|---|---|
| 센서 입력 | 1 채널 | |
| 셀 정수 | 0.1/cm | |
| 온도 센서 사양 | 백금온도측정저항체 1000Ω/0℃ 내장 | 온도 계수 3850ppm/℃ 표준 | |
| 측정 범위 | 비저항 |
0~0.200, 0~2.00, 0~20.00, 0~100.0MΩ·cm(0~2.00, 0~20.0, 0~200.0, 0~1000kΩ·m)
* 100.0MΩ·cm, 1000kΩ·m의 범위는 온도 보상없이 측정 가능
|
| 온도 | 0~100℃(소수점 이하 2자리수까지 선택 표시 가능) | |
| 반복성 | Full Scale ±0.5% | |
| 직선성 | Full Scale ±0.5% | |
전극 삽입형 도전율계(HE-480C-GC)
고내압·내약품성이 뛰어나 금속 오염을 받지 않는 특수 Carbon 전극을 적용하여 여러가지 약액의 도전율을 측정합니다. 반도체 세정 프로세스 중의 농도 관리나 약액의 희석관리 또는 DI Water의 리사이클 감시 등 폭넓게 사용할 수 있습니다. - 반도체 Wet 프로세스의 약액 측정이나 DI Water 회수에 위력을 발휘 - 온도 측정·동시 표시 기능을 탑재 - 측정치와 파라미터 설정치를 동시 표시 - 풍부한 온도 보상 기능을 내장 - 알기 쉬운 아이콘 표시와 만전을 기한 Security 기능 - CE마크 대응
| 측정 범위 | 2 전극 방식 | |
|---|---|---|
| 온도 센서 사양 | 백금온도측정저항체 1000/0℃내장 | 온도 계수 3850ppm/℃ 표준 | |
| 측정 범위 | 셀정수 | 0.1/cm(ESH-01시리즈) |
| 측정 범위 | µS/cm : 20.00/200.0 | mS/m : 2.000/20.00 | |
| 온도 | 0~100℃(소수점 이하 2자리수까지 선택 표시 가능) | |
| 반복성 | Full Scale의 ±0.5%(TDS환산표시는 Full Scale±1.5%) | |
| 직선성 | Full Scale의 ±0.5%(TDS환산표시는 Full Scale±1.5%) | |
인라인 센서형 도전율계(HE-960HC)
반도체·액정 프로세스에서 사용되는 약액의 농도 및 희석율 관리를 위해 넓은 범위의 도전율을 고정밀도로
측정합니다.
- Wide Range 대응
- 표시 Range 자동 전환
- 다양한 온도보상 대응
- 도전율을 농도로 환산할 수 있는 기능 탑재
- 내약품성 카본 센서 채용
| 측정 방식 | 4 전극 카본 유통형 도전율 방식 |
|---|---|
| 측정 범위 | 0~1000mS/cm |
| 온도 | 0~100℃ |
| 반복성 | Full Scale의 ±0.5% |
| 직선성 | Full Scale의 ±0.5% |
TMAH 전용 농도계 (HE-960H-TM-S)
반도체·액정 프로세스에서 사용되는 포토레지스트(photoresist) 현상액의 주성분 TMAH 용액의 농도를 wt% 단위로 고정밀 측정합니다. - 10ppm단위까지의 고정밀도 농도 측정 - 온도영향을 최소화하기 위한 보상 기능 탑재 - 온도 측정·동시 표시 기능을 탑재 - 아날로그 출력을 자유롭게 배분 가능
| 측정 방식 | 4 전극 카본 유통형 도전율 방식 |
|---|---|
| 측정 범위 | TMAH 0~3wt% |
| 온도 | 0~100℃ |
| 반복성 | Full Scale의 ±0.5% |
| 직선성 | Full Scale의 ±0.5% |
용존 오존 모니터(HZ-960)
시약을 사용하지 않기 때문에 Cost Down, 환경 고려 차원으로 점점 기대가 높아지는 오존수의 농도 관리에
최적입니다. 장치의 환경에 맞춰 선택할 수 있는 샘플링 타입과 인라인 타입의 검출기를 선택 사용할 수 있습니다.
- 다양한 배관 사이즈 선택가능
인라인 타입의 센서는 1인치, 3/4인치, 1/2인치 구성되어 용도나 장비 환경에 맞춰 선택 할 수 있습니다.
- 폭 넓은 측정범위
표준사양의 0~100mg/L 레인지를 바탕으로 5종류의 측정 레인지를 구비, 목적에 따라 저농도 관리부터 고농도 관리까지 폭 넓은 대응이 가능
- 높은 측정 정밀도
제로 안정성 ±0.05%FS/day 이내, 재현성 ±0.2%FS/day 이내이며 안정된 오존수 프로세스를 유지하는 것이 가능.
- Remote 출력이 가능하고 다양한 출력이 가능
- 알기 쉬운 아이콘 표시로 계측기 상태 표시
- 만전을 기한 Security 기능으로 오작동이나 측정 미스를 방지
- CE마크 대응
| 측정 방식 | UV흡수법(254mm) |
|---|---|
| 측정 범위 | ZH-10 : O3 0~10ppm |
| ZH-40 : O3 0~40ppm | |
| ZH-100 : O3 0~100ppm | |
| ZH-200 : O3 0~200ppm | |
| ZH-500 : O3 0~500ppm | |
| 반복성 | Full Scale의 ±0.2% 이내 |
| 직선성 | Full Scale의 ±1.0% 이내 |
공업용 pH Meter(HP-480)
배수 공정에 있어서의 pH 연속 감시에 최적인 공업용 pH계입니다.
발군의 조작성과 뛰어난 cost performance를 실현합니다.
- 표준액에 전극을 담궈 CAL 키와 ENT 키를 누르는 것만으로 간단하게 교정
- 전극의 양품/불량품을 자동으로 판정
- 편리한 사용과 확실한 조작성을 실현
- 납성분없는 설계를 실현
| 측정 범위 | 0.00~14.00pH | 온도: 0~100℃ | |||
|---|---|---|---|---|
| 반복성 | ±0.05pH | |||
| 전송 출력 | DC4~20mA 입출력 절연형 | |||
| 전원 | AC 100~240V ± 10% | |||
| 전극사양 | 모델명 | 6108-50B | ||
| 온도범위 | 0~100℃ | |||
| 접액부 재질 | 세라믹 | |||
| 케이블 길이 | 5M | |||
PR-PD2
- Pattern상에서 0.35μm의 이물 검출 감도와 90% 이상의 검출율을 자랑합니다. (전산 모드 사용에 의한 감도는 93%가 됩니다) - Reticle/Mask상의 이물 검출은 물론 Pattern/Galss/Pellicle 각면을 High throughput으로 측정합니다. - 상하면 이물관찰 기능을 탑재(관찰 배율 다단 전환)하였습니다. - 각종 Stepper Case에 대응 가능하고 옵션으로 최대 10단까지의 다단 케이스도 준비되어 있습니다. - 다채로운 검사 조건 설정 기능에 의해 조작도 간단합니다. - 데이터 관리 기능을 내장해 필요에 맞는 형식으로 리포트 출력이 가능합니다.
PR-PD2HR
- 최소 검출 감도 0.35μm
레이저 산란 방식과 독자적인 신호 처리 방식 채용으로, 최소 0.35㎛의 이물 검출 가능
Reticle/Mask 선폭 1.0μm 이하, 라인간 1.0μm의 패턴 판별 기능에 의해 검출 오차를 최소한으로 억제합니다.
- 각종 Stepper Case에 대응하는 다단 Sorter
최대 10단까지 가능한 다단 Sorter는 각종 Stepper Case를 시작으로 SMIF-POD에도 대응
복수의 메이커나 다른 사이즈의 Stepper Case 편성이 가능합니다.
- 조작은 간단, DMS로 데이터 관리 가능
Reticle의 크기, 검사의 형상, 검사 표면의 Area, 레벨 등 다채로운 검사 조건을 설정할 수 있어 측정 조작은
매우 간단. 또, 측정 결과는 이물의 크기에 따라 매핑 표시되어 검출 조작중에 기판상에서 발견된 이물을
매트릭스로 리얼타임 표시할 수 있습니다. 검사 결과는 데이터 베이스 서버에 저장되어 DMS(데이터 관리 소프트
웨어)에 의해 데이터 관리, 각종 리포트 출력, 사용자 조건의 설정 등 다채로운 관리가 가능.
LAN 접속에 의한 데이터의 쌍방향 통신도 실시할 수 있습니다.
PR-PD3
- 종래 대비 1/2의 소형 설계
PR-PD2와 비교해 바닥 면적비의 1/2정도의 소형화를 실현. 점유 면적이 큰폭으로 작아졌으므로, 조작 유닛
(옵션)을 추가해도 자유로운 레이아웃이 가능합니다.
- Low Running Cost를 실현
레이저 빛에는 발군의 경제성을 자랑하는 He- Ne레이저를 채용함과 동시에 심플한 스테이지 반송계를 채용
하는 등 유지비, Running Cost의 대폭적인 저감을 실현했습니다.
- 효과적인 오류 검출 대책 기능
Coarse 패턴용의 편광차동과 미세한 패턴용의 로우 패스차이의 두 기능을 탑재. 이 두개의 방법 병용에 의해
OPC 등 양쪽 모두의 특성을 가지는 패턴 오류 검출 대책을 효과적으로 실시할 수가 있습니다.
PR-PD5
PD시리즈의 고성능을 계승하면서 한층 더 소형화에 의해 뛰어난 Cost performance를 실현.
Reticle Stocker나 Stepper, 세정 장치등으로의 조합구성도 가능합니다.
- Reticle 상하 반전 기구
- 0.5-50μm 선택 가능
- 검사계 1계통
- 장치 내장/조합형
자동이물 제거장치(RP-1)
Blow와 진공 흡인으로 이물을 자동 제거
Reticle/Mask에 부착된 이물을 Air(또는 N2) Blow와 진공 흡인에 의해 자동 제거됩니다.
노광 전 루틴한 운용으로 매회 이물을 제거함으로써 Pellicle의 교환이나 마스크의 세정 주기를 연장시켜 Running cost 저감에 기여합니다.
이물 검사 장치 PR-PD시리즈와 조합하여 이물 제거 후의 Reticle/Mask 상태를 확인할 수도 있습니다.
제품 구매 및 관련 문의는 아래 이메일 혹은 전화 031-781-0033으로 연락바랍니다.